Tăng quỹ 15 tháng 9 2024 – 1 tháng 10 2024 Về việc thu tiền

Рост Ge(Si) самоформирующихся наноотростков на подложках...

Рост Ge(Si) самоформирующихся наноотростков на подложках Si(001) методом молекулярно пучковой эпитаксии

Лобанов Д.Н., Новиков А.В., Шалеев М.В.
Bạn thích cuốn sách này tới mức nào?
Chất lượng của file scan thế nào?
Xin download sách để đánh giá chất lượng sách
Chất lượng của file tải xuống thế nào?
Электронное методическое пособие. - Нижний Новгород, ННГУ, 2010. - 17 с.В настоящее время на основе полупроводниковых гетероструктур создаются разного рода низкоразмерные системы (квантовые ямы, нити и точки), в которых наряду с изменением физических свойств объектов возникают новые физические эффекты, связанные с пространственным ограничением движения носителей заряда. На основе гетероструктур были созданы и теперь уже являются коммерчески доступными такие новые приборы как быстродействующие гетеробиполярные транзисторы (HBT) и полевые транзисторы на основе селективно легированных структур (MODFET) c улучшенными шумовыми характеристиками, резонансно-туннельные диоды повышенной мощности и лучшими усиливающими характеристиками, а также гетеролазеры с низкими пороговыми токами и большими значениями коэффициента усиления и высокой температурной стабильностью. Работа направлена на ознакомление на примере гетеропары германий — кремний с физическими и технологическими основами метода молекулярно-пучковой эпитаксии полупроводниковых наноструктур.
Ngôn ngữ:
russian
File:
PDF, 421 KB
IPFS:
CID , CID Blake2b
russian0
Đọc online
Hoàn thành chuyển đổi thành trong
Chuyển đổi thành không thành công

Từ khóa thường sử dụng nhất